על פי הדיווחים, ג'וס בנשופ, סמנכ"ל טכנולוגיה ביצרן ציוד המוליכים למחצה ההולנדי ASML, הצהיר כי החברה החלה להתמקד בפיתוח הדור הבא של מכונות ליטוגרפיה מתקדמות כדי לשרת את ענף השבבים בעשור הבא.
בנשופ הצהיר כי ASML והשותף האופטי הבלעדי שלה, קרל זייס, חוקרים ציוד שיכול להדפיס רזולוציות בסדר כמו 5 ננומטר עם חשיפה יחידה, והוסיף כי הטכנולוגיה תהיה מתקדמת מספיק כדי לעמוד בביקוש בתעשייה עד 2035 ומעבר לה.
לאחרונה, ASML החלה לספק את המכונות המתקדמות ביותר שלה, שיכולות להשיג רזולוציית חשיפה יחידה של עד 8 ננומטר.מכונות עם דיוק נמוך יותר דורשות חשיפות מרובות כדי להשיג רזולוציות דומות, מה שאומר שיעילות ייצור השבבים נמוכה יותר ואיכות הייצור נמוכה בהרבה.
בנשופ אמר, "אנו מנהלים כעת מחקר עיצובי עם בן זוגנו קרל זייס, במטרה להגדיל את הצמצם המספרי ל 0.7 ומעלה. עם זאת, טרם קבענו תאריך ספציפי להשקת המוצר
צמצם מספרי (NA) הוא אינדיקטור ליכולתה של המערכת האופטית לאסוף ולמקד אור, והוא גם גורם מפתח הקובע את דיוק ההדפסה של מעגלים על פלים.ככל שהצמצם המספרי גדול יותר, אורך הגל של האור קצר יותר, ודיוק ההדפסה גבוה יותר.הצמצם המספרי (NA) של מכונת הליטוגרפיה האולטרה -סגולה הקיצונית של ASML (EUV) הוא 0.33.למכונת הליטוגרפיה האחרונה של "NA" יש צמצם של 0.55.כדי ליצור מכונת ליטוגרפיה "hyper na" עם צמצם של 0.7 ומעלה, יש לעצב מחדש מספר מערכות מפתח.
ASML העבירה את האצווה הראשונה של מכונות NA גבוהות ליצרני השבבים העולמיים המובילים כמו אינטל ו- TSMC.בנשופ הצהיר כי היישום הגדול בקנה מידה של מכונות אלה יתקיים בהמשך מכיוון שהתעשייה דורשת זמן לבחון ולאמת את הפונקציונליות של מערכות חדשות מורכבות אלה, כמו גם לפתח את החומרים והכלים התומכים הדרושים בכדי להפוך אותם למפעילים במלואם.הוא הוסיף כי צפוי כי מכונות EUV של צמצם מספרי גבוה יעמדו בביקוש הענף עד סוף העשור הזה או אפילו לתחילת שנות העשרים של המאה העשרים.
בנשופ אמר, "הצגת הכלי החדש הזה דומה מאוד לרבים מהכלים החדשים שהשקנו בעשורים האחרונים. בדרך כלל לוקח כמה שנים להשיג באמת ייצור המוני (ייצור שבבים). לקוחות צריכים ללמוד כיצד להשתמש בו, אך אין לי ספק שבעתיד הקרוב, זה יוכל להכניס לייצור המוני (ייצור שבב)
נכון לעכשיו, רק ASML, ניקון וקאנון מספקים מכונות ליטוגרפיה אפשריות לייצור שבבים, ו- ASML הוא הספק הבלעדי של כלי ליטוגרפיה של EUV.פוטוליטוגרפיה היא צעד מכריע בייצור שבבים, שם מודפסים מעגלים משולבים ומוקרנים על רקיק לבניית השבב.
בעבר, ASML ציין כי טכנולוגיית ה- EUV מורכבת ביותר, וציוד ליטוגרפיה של EUV דורש תמיכה שיתופית של טכנולוגיות בין-תחומיות מרובות להשגת יכולות ייצור המוניות חסכוניות.ASML חקר דרכים טכנולוגיות אחרות לפני שנים רבות, אך בסופו של דבר נטש אותם.נכון לעכשיו אין נתונים אמינים המעידים על כך שמערכות EUV בוגרות נמצאות בפיתוח.
בנשופ הצהיר כי אחד היתרונות העיקריים של ASML הוא הגישה השיתופית שלו עם ספקים מובילים, במקום לבנות את כל הרכיבים בפני עצמה.החברה אימצה אסטרטגיה זו מתוך הכרח בימים הראשונים שבהם הסולם היה קטן והמשאבים היו נדירים.הוא הוסיף כי עם הזמן, הצורך השיתופי הזה התפתח בהדרגה לתכונת ליבה וכוח מניע להצלחה עבור החברה.ההצלחה שלנו בתחום ה- EUV נובעת בעיקר משיתוף הפעולה שלנו עם רשת עצומה של ספקים, לקוחות ושותפי טכנולוגיה, "אמר בנשופ. זה נתן לנו כוח רב. אנחנו לא נלחמים לבד
בנשופ הצהיר כי ASML הוציאה עד 16 מיליארד יורו (כ- 18.55 מיליארד דולר אמריקאי) על רכישת חומרים ורכיבים מספקים בשנה שעברה, והדגישה את התפקיד המכריע של שותפי המערכת האקולוגית שלה.בעשור האחרון, הוצאות המחקר והפיתוח של ASML גדלה גם היא באופן משמעותי, מכ- 1.1 מיליארד יורו בשנת 2015 ל -4.3 מיליארד יורו בשנה שעברה.
בנשופ הצהיר כי יצרני הכימיקלים והחומרים היפניים ממלאים תפקיד מכריע בטכנולוגיית הליטוגרפיה, והצביע כי JSR, Kyocera, Mitsui Chemicals, הדפסת הקלה, TAG Heuer, DNP ואוניברסיטת אוסאקה הם שותפי המערכת האקולוגית שלה.ביניהם, JSR הוא הספק העיקרי של פוטורסיסט איכותי, ואילו TAG Heuer, הדפסת הקלה ו- DNP מספקים פוטומטים יוקרתיים.Kyocera מספקת רכיבי מפתח, ואילו כימיקלים של Mitsui מייצרים סרטי מגן מתקדמים (כלומר כיסויי אבק המגנים על פוטומיות).
המנהל הצהיר כי גם שיתוף פעולה הדוק עם לקוחות השבבים הגלובליים המובילים כמו סוני וראפידוס ביפן הוא חשוב.
כפיזיקאי, הבנשופ החל את הקריירה שלו במעבדת המחקר של פיליפס בשנת 1984 והצטרף ל- ASML בשנת 1997, והשיק את פרויקט ה- EUV של החברה באותה שנה.
פיתוח טכנולוגיית האיחוד האירופי התבסס על המאמצים החלוציים של חוקרים באמצע שנות השמונים, כולל מדענים ידועים גלובליים כמו הירו קינושיטה מיפן, פרד בייקרק מהולנד, וצוות ממעבדות בל בארצות הברית.ASML לא סיפקה את מכונת ההפגנה הראשונה שלה עד 2006.
הקשיים בפועל חרגו בהרבה מהציפיות, אך מעולם לא ויתרנו ", אמר בנשופ על המאמצים של ASML למסחור את הטכנולוגיה.
בסופו של דבר, פריצות דרך באופטיקה ומקורות קלים, כמו גם התקדמות בטכנולוגיית ואקום ויעילות ייצור, אפשרו למכונת הליטוגרפיה של החברה EUV להשיג ייצור המוני בשנת 2019, ובכך לסייע לחברות כמו TSMC וסמסונג בהשגת ייצור שבבים מתקדמים.השבוע נכח בנשופ בוועידת הטכנולוגיה הבינלאומית של פוטופולימר שהתקיימה ביפן ב- 25 ביוני והוענק ל"פרס ההישג המצטיין "על תרומותיו בתחום המדע והטכנולוגיה של פוטופולימר.
